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タイトル
和文:
英文:
DEVELOPMENT OF NEW EVALUATION METHOD FOR ADHESIVE STRENGTH BETWEEN MICROSIZED PHOTORESIST AND Si SUBSTRATE OF MEMS DEVICES
著者
和文:
石山 千恵美
,
曽根 正人
,
肥後 矢吉
.
英文:
Chiemi Ishiyama
,
Masato Sone
,
Yakichi Higo
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
10 International Conference on The Mechanical Behavior of Materials
巻, 号, ページ
Vol. 345/346 pp. 1185-1188
出版年月
2007年5月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
10 International Conference on The Mechanical Behavior of Materials
開催地
和文:
英文:
Busan, Korea
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.