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論文・著書情報


タイトル
和文:ECRプラズマプロセスによるHfO2系絶縁膜の極薄膜化の検討 
英文: 
著者
和文: 仲野雄介, 佐藤雅樹, 大見俊一郎.  
英文: Yusuke Nakano, 佐藤雅樹, Shun-ichiro OHMI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電子情報通信学会技術研究報告 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 107    No. 245    pp. 19-22
出版年月 2007年10月 
出版者
和文:電子情報通信学会 
英文: 
会議名称
和文:電子情報通信学会SDM研究会 
英文: 
開催地
和文:東北大学 
英文: 

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