MOCVD法によるPZT薄膜構造の成長様式と成膜速度の関係

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法によるPZT薄膜構造の成長様式と成膜速度の関係
英文:	Relastionship between Growth Mechanism and Deposition Rate of PZT Films by MOCVD.

著者

和文:	石田陽平, 玄一, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	石田陽平, 玄一, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第16回関東支部研究発表会
英文:	16 th Ceramic Research Conference of Kanto Branch

巻, 号, ページ

No. 1A04 pp. 6-7

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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