English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
アルミニウム誘起結晶化法による多結晶シリコン薄膜形成挙動のその場加熱観察
英文:
In-Situ Heating Observation for Formation Behavior of Polycrystalline Silicon Thin Films Fabricated Using Aluminum Induced Crystallization
著者
和文:
池 田 賢 一,
高 田 尚 記
, 廣 田 健, 井 誠一郎, 杉 本 陽 平, 中 島 英 治, 中 島 寛.
英文:
Ken-ichi Ikeda,
Takeshi Hirota
, Kensuke Fujimoto, Youhei Sugimoto, Seiichiro Ii, Hideharu Nakashima, Hiroshi Nakashima.
言語
Japanese
掲載誌/書名
和文:
日本金属学会誌
英文:
J. Japan Inst. Metals
巻, 号, ページ
Vol. 71 No. 2 pp. 158-163
出版年月
2007年2月
出版者
和文:
英文:
The Japan Institute of Metals
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.