Deposition of device grade poly-Si films on glass substrate directly at 450 °C and fabrication of bottom-gate poly-Si TFTs

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Deposition of device grade poly-Si films on glass substrate directly at 450 °C and fabrication of bottom-gate poly-Si TFTs

著者

和文:	李正禹, Cheol-hyun Lim, 半那純一.
英文:	Jeong-Woo Lee, Cheol hyun Lim, Jun-ichi Hanna.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Non-Crystalline Solids

巻, 号, ページ

Vol. 354 No. 18-25 pp. 2500-2504

出版年月

2008年6月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI