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論文・著書情報


タイトル
和文:Si2H6-F2系反応性CVD法によるa-Si薄膜とTFTの作製 
英文: 
著者
和文: 佐々木直人, 半那純一.  
英文: Naoto Sasaki, Jun-ichi Hanna.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第69回応用物理学会学術講演会講演予稿集 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2008年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第69回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:愛知、日本 
英文: 

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