Improvement ofin electrical characteristics of Plasma enhanced Chemical Vapor Deposition–teraethoxylsilane–SiO2 by atomic hydrogen passivation via hot-wire technique

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Improvement ofin electrical characteristics of Plasma enhanced Chemical Vapor Deposition–teraethoxylsilane–SiO2 by atomic hydrogen passivation via hot-wire technique

著者

和文:	Lim Cheol, 半那純一.
英文:	Cheol-hyun Lim, Jun-ichi Hanna.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 45 No. 48 pp. L1270-1272

出版年月

2006年7月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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