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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Measurement of plasma density for control of etching profile in inductively coupled plasma etching of InP 
著者
和文: 伊賀健一.  
英文: Kenichi Iga.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ vol. 41    no. 5A    pp. 3147-3148
出版年月 2002年5月 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.1143/jjap.41.3147

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