Study of trap generation in the Sc2 O 3/La2O3/SiOxgate dielectric stack by scanning tunneling microscopy

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Study of trap generation in the Sc2 O 3/La2O3/SiOxgate dielectric stack by scanning tunneling microscopy

著者

和文:	D.S. Ang, Y.C. Ong, S.J. O'Shea, K.L. Pey, 角嶋邦之, 岩井洋.
英文:	D.S. Ang, Y.C. Ong, S.J. O'Shea, K.L. Pey, Kuniyuki KAKUSHIMA, HIROSHI IWAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	APPLIED PHYSICS LETTERS

巻, 号, ページ

Vol. 93 No. 242904

出版年月

2008年

出版者

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会議名称

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開催地

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