大気圧非平衡DCパルスプラズマジェットによる半導体製造過程における洗浄技術の開発

論文・著書情報

タイトル

和文:	大気圧非平衡DCパルスプラズマジェットによる半導体製造過程における洗浄技術の開発
英文:	Development of Cleaning Technology on Semiconductor Equipment Process for Atmospheric-pressure Non-equilibrium DC Pulse Plasma Jet

著者

和文:	湯地敏史, 川野泰和, 龍口直人, 佐藤慎也, 赤塚洋.
英文:	Toshifumi Yuji, Hirokazu Kawano, Naoto Tatsuguchi, Shinya Satoh, HIROSHI AKATSUKA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電気学会研究会資料プラズマ・パルスパワー・放電合同研究会
英文:	The Papers of Joint Technical Meeting on Plasma Science and Technology, Pulsed Power Technology and Electrical Discharges, IEE Japan

巻, 号, ページ

Vol. PST-09-22~40 # PST-09-36 pp. 81-86

出版年月

2009年8月

出版者

和文:	社団法人電気学会
英文:	The Institute of Electrical Engineers of Japan

会議名称

和文:	電気学会研究会プラズマ・パルスパワー・放電合同研究会
英文:	oint Technical Meeting on Plasma Science and Technology, Pulsed Power Technology and Electrical Discharges, IEE Japan

開催地

和文:	同志社大学（今出川キャンパス）
英文:	Doshisha University, Imadegawa Campus