Improvement of Thermal Stability of Ni Silicide on N+-Si by Direct Deposition of Group III Element (Al, B) Thin Film at Ni/Si Interface

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Improvement of Thermal Stability of Ni Silicide on N+-Si by Direct Deposition of Group III Element (Al, B) Thin Film at Ni/Si Interface

著者

和文:	筒井一生, T. Shiozawa, K. Nagahiro, Y. Ohishi, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, N. Urushihara, M. Suzuki, 岩井洋.
英文:	KAZUO TSUTSUI, T. Shiozawa, K. Nagahiro, Y. Ohishi, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, N. Urushihara, M. Suzuki, HIROSHI IWAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Microelectronic Engineering

巻, 号, ページ

Vol. 85 pp. 2000-2004

出版年月

2008年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI