イオン注入法を用いた半導体素子製作に関する研究 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	イオン注入法を用いた半導体素子製作に関する研究
英文:

著者

和文:	石原宏.
英文:	HIROSHI ISHIWARA.

種別

種別:	学位論文(博士)
国名:	日本

言語

Japanese

学位授与組織

東京工業大学

報告番号

甲第614号

学位授与日

1973/03/26

審査員

ファイル

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