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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:VHF Plasma process for size-controlled Si nanodot fabrication 
著者
和文: 小田俊理.  
英文: SHUNRI ODA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2010年3月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:2010 International Symposium on Atom -scale Silicon Hybrid Nanotechnologies for 
開催地
和文:サザンプトン（英） 
英文:Southampton（U.K.) 

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