Effects of Aspect Ratio of Photoresist Patterns on Adhesive Strength between Microsized SU-8 Columns and Silicon Substrate under Bend Loading Condition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effects of Aspect Ratio of Photoresist Patterns on Adhesive Strength between Microsized SU-8 Columns and Silicon Substrate under Bend Loading Condition

著者

和文:	石山千恵美, 柴田曉伸, 曽根正人, 肥後矢吉.
英文:	CHIEMI ISHIYAMA, Akinobu Shibata, Masato Sone, Yakichi Higo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics,

巻, 号, ページ

Vol. 49 pp. 06GN14-1-06GN14-5

出版年月

2010年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: