キャリア移動度評価によるシリコンナノワイヤトランジスタの電気特性解析

論文・著書情報

タイトル

和文:	キャリア移動度評価によるシリコンナノワイヤトランジスタの電気特性解析
英文:

著者

和文:	佐藤創志, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 大毛利健二, 名取研二, 岩井洋, 山田啓作.
英文:	Soshi Sato, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, Kenji Ohmori, KENJI NATORI, HIROSHI IWAI, Keisaku Yamada.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会技術研究報告 pp.11-16
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2010年6月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:	東京大学
英文: