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タイトル
和文:SiO2細線埋込InP系HBTにおけるCBr4を使ったIn-situエッチング 
英文: 
著者
和文: 武部直明, 山下浩明, 高橋新之助, 齋藤尚史, 小林 嵩, 宮本恭幸, 古屋一仁.  
英文: Naoaki Takebe, Hiroaki Yamashita, Shinnosuke Takahashi, Hisashi Saito, Takashi Kobayashi, YASUYUKI MIYAMOTO, KAZUHITO FURUYA.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2009年6月 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:電子情報通信学会電子デバイス研究会 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

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