Impact of Nitrogen Profile in Gate Nitrided-Oxide on Deep-Submicron CMOS Performance and Reliability

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Impact of Nitrogen Profile in Gate Nitrided-Oxide on Deep-Submicron CMOS Performance and Reliability

著者

和文:	高崎金剛, 入野清, 青山敬幸, 籾山陽一, 中西俊郎, 田村泰之, 伊藤隆司.
英文:	Kanetake Takasaki, Kiyoshi Irino, Takayuki Aoyama, Youichi Momiyama, Toshiro Nakanishi, Yasuyuki Tamura, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Fujitsu Sci. and Tech. Jour.

巻, 号, ページ

Vol. 39 No. 1 pp. 40-51

出版年月

2003年1月

出版者

和文:
英文:	Fujitsu

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: