Surface modification of silicon wafer by low-pressure high-frequency plasma chemical vapor deposition method
著者
和文:
H. Kataoka,
Mungkung Narong,
湯地 敏史,
M. Kawano,
Y. Kiyota,
D. Uesugi,
K. Nakabayashi,
須崎 嘉文,
H. Shibata,
N. Kashihara,
K. Sakai,
T. Bouno,
赤塚 洋.
英文:
H. Kataoka,
N. Mungkung,
T. Yuji,
M. Kawano,
Y. Kiyota,
D. Uesugi,
K. Nakabayashi,
Y. Suzaki,
H. Shibata,
N. Kashihara,
K. Sakai,
T. Bouno,
H. Akatsuka.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
2010 24th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (ISDEIV)
巻, 号, ページ
pp. 505 - 508
出版年月
2010年8月
出版者
和文:
英文:
IEEE
会議名称
和文:
英文:
2010 24th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (ISDEIV)
各種検索
サポート
ヘルプ