Study on Gas Replacement Time in Plasma Process Chamber for Realizing Ideal Down Flow of Gas without Disturbance

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Study on Gas Replacement Time in Plasma Process Chamber for Realizing Ideal Down Flow of Gas without Disturbance

著者

和文:	森下貞治, 後藤哲也, 伊藤隆司, 大見忠弘.
英文:	Sadaharu Morishita, Tetsuya Goto, Takashi Ito, Tadahiro Ohmi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Int. Symp. on Semicon. Manufacturing 2008 (ISSM2008)

巻, 号, ページ

pp. 177-180

出版年月

2008年10月

出版者

和文:
英文:	Int. Symp. on Semicon. Manufacturing 2008 (ISSM2008)

会議名称

和文:
英文:	Int. Symp. on Semicon. Manufacturing 2008 (ISSM2008)

開催地

和文:
英文:	Tokyo, Japan