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論文・著書情報


タイトル
和文:高不純物濃度のETSOI(Extremely-Thin SOI) 拡散層における移動度とSOI 膜厚および不純物濃度の関係 
英文: 
著者
和文: 角谷直哉, 高橋綱己, 大橋輝之, 小寺哲夫, 小田俊理, 内田 建.  
英文: N Kadotani, Tsunaki Takahashi, 大橋輝之, Tetsuo Kodera, SHUNRI ODA, Ken Uchida.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2011年3月 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:第58回応用物理学関係連合講演会 
英文: 
開催地
和文:厚木市 
英文: 

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