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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Anomalous Electron Mobility in Extremely-Thin SOI (ETSOI) Diffusion Layers with SOI Thickness of Less Than 10 nm and High Doping Concentration of Greater Than 1×1018cm-3 
著者
和文: 角谷 直哉, 高橋 綱己, K. Chen, 小寺 哲夫, 小田 俊理, 内田 建.  
英文: N. Kadotani, T. Takahashi, K. Chen, T. Kodera, S. Oda, K. Uchida.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2010年12月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:EDM2010 
開催地
和文: 
英文:San Francisco 

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