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タイトル
和文:
英文:
Anomalous Electron Mobility in Extremely-Thin SOI (ETSOI) Diffusion Layers with SOI Thickness of Less Than 10 nm and High Doping Concentration of Greater Than 1×1018cm-3
著者
和文:
角谷 直哉
,
高橋 綱己
, K. Chen,
小寺 哲夫
,
小田 俊理
,
内田 建
.
英文:
N. Kadotani
,
T. Takahashi
, K. Chen,
T. Kodera
,
S. Oda
,
K. Uchida
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
出版年月
2010年12月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
EDM2010
開催地
和文:
英文:
San Francisco
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.