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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Grain boundary assisted degradation and breakdown study in cerium oxide gate dielectric using scanning tunneling microscopy 
著者
和文: K. Shubhakar, K.L. Pey, S.S. Kushvaha, S.J. O'Shea, N. Raghavan, M. Bosman, 幸田みゆき, 角嶋邦之, 岩井洋.  
英文: K. Shubhakar, K.L. Pey, S.S. Kushvaha, S.J. O'Shea, N. Raghavan, M. Bosman, Miyuki Kouda, Kuniyuki KAKUSHIMA, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Applied Physics Letters 
巻, 号, ページ Vol. 98    No. 072902   
出版年月 2011年2月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1063/1.3553190

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