III-V MOSFETs for Next Generation – Fabrication of III-V MOS Capacitors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	III-V MOSFETs for Next Generation – Fabrication of III-V MOS Capacitors

著者

和文:	岩井洋, 角嶋邦之, E.Y.Chang, Yueh-Chin Lin.
英文:	HIROSHI IWAI, Kuniyuki KAKUSHIMA, E.Y.Chang, Yueh-Chin Lin.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2011年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Taiwan-Japan Workshop on “Nano Devices”

開催地

和文:
英文: