Development of a Chemically Amplified Photosensitive Polyimide Based on Poly(amic acid), a Dosslution Inhibitor, and a Photoacid Generator

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Development of a Chemically Amplified Photosensitive Polyimide Based on Poly(amic acid), a Dosslution Inhibitor, and a Photoacid Generator

著者

和文:	杉山雅哉, 小倉知士, 東原知哉, 上田充.
英文:	Masaya Sugiyama, Tomohito Ogura, tomoya higashihara, mitsuru ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Photopolym. Sci.＆Technol.

巻, 号, ページ

Vol. 23 pp. 483-488

出版年月

2010年8月4日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: