対向ターゲット式スパッタ法の斜め入射効果を利用したFeCoB薄膜への高異方性磁界付与法の開発

論文・著書情報

タイトル

和文:	対向ターゲット式スパッタ法の斜め入射効果を利用したFeCoB薄膜への高異方性磁界付与法の開発
英文:

著者

和文:	中川茂樹, 平田健一郎, 益子泰裕, 橋本篤人.
英文:	Shigeki Nakagawa, Kenichiro Hirata, Yasuhiro Mashiko, Atsuto Hashimoto.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	平成22年度秋季大会粉体粉末冶金協会講演概要集
英文:	Abstracts of Autumn Meeting of Japan Society of Powder and Powder Metallurgy, 2010

巻, 号, ページ

p. 54

出版年月

2010年11月9日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	平成22年度秋季大会粉体粉末冶金協会講演
英文:	Autumn Meeting of Japan Society of Powder and Powder Metallurgy, 2010

開催地

和文:	京都府
英文: