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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Screening of Metal Flux for SiC Solution Growth by a Thin Film Combinatorial Method 
著者
和文: 米澤喜幸, Ryo Mina, A Takigawa, 松本 祐司.  
英文: Y.Yonezawa, Ryo Mina, A Takigawa, Y. Matsumoto.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Sci. Technol. Adv. Mater 
巻, 号, ページ Vol. 12    No. 054209-1-4   
出版年月 2011年12月28日 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.1088/1468-6996/12/5/054209

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