Fabrication of Ni/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/Ni Heteroepitaxial Junction by Post Hydrogen Reduction of NiO/Al2O3/NiO Tri-layered Epitaxial Thin Film

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of Ni/Al₂O₃/Ni Heteroepitaxial Junction by Post Hydrogen Reduction of NiO/Al2O3/NiO Tri-layered Epitaxial Thin Film

著者

和文:	山内涼輔, Keisuke Kobayashi, 保坂誠, Toshimasa Suzuki, 小山浩司, 松田晃史, 荒井秀樹, 加藤侑志, Masahiko Mitsuhashi, 金子智.
英文:	Ryosuke Yamauchi, Keisuke Kobayashi, Makoto Hosaka, Toshimasa Suzuki, Koji Koyama, Akifumi Matsuda, Hideki Arai, Yushi Kato, Masahiko Mitsuhashi, Satoru Kaneko.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 50 098004

出版年月

2011年9月20日

出版者

和文:	応用物理学会
英文:	The Japan Society of Applied Physics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: