50nm Ultra Thin Base Silicon Bipolar. Device Fabrication Based on Photo-epitaxial Growth

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	50nm Ultra Thin Base Silicon Bipolar. Device Fabrication Based on Photo-epitaxial Growth

著者

和文:	鈴木邦広, 深野哲, 石割宏, 山崎辰也, 田口真男, 伊藤隆司, 石川元.
英文:	Kunihiro Suzuki, Tetsu Fukano, Hiroshi Ishiwari, Tatsuya Yamazaki, Masao Taguchi, Takashi Ito, Hajime Ishikawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Digest of Symp. on VLSI Technology

巻, 号, ページ

pp. 91-93

出版年月

1989年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Digest of Symp. on VLSI Technology

開催地

和文:
英文:	Kyoto