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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Reactive Ion Beam Etch of GaInAsP/InP Multilayer and Removal of Damaged Layer by Two-Step Etch 
著者
和文: 松谷晃宏, 小山二三夫, 伊賀健一.  
英文: Akihiro Matsutani, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 30    No. 9A    pp. 2123-2126
出版年月 1991年9月 
出版者
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会議名称
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開催地
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