ミストCVD法によるγ型Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>のエピタキシャル安定化

論文・著書情報

タイトル

和文:	ミストCVD法によるγ型Ga₂O₃のエピタキシャル安定化
英文:	Epitaxial stabilization of gamma-phase Ga₂O₃ thin films by Mist CVD

著者

和文:	大島孝仁, 中園敦巳, 向井章, 大友明.
英文:	T. Oshima, T. Nakazono, A. Mukai, A. Ohtomo.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2012年7月12日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第31回電子材料シンポジウム
英文:	31st Electronic Materials Symposium (EMS-31)

開催地

和文:	伊豆市
英文:	Izu City

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