Three-dimensional electron probe roughness analysis of InP sidewalls processed by reactive ion beam etching

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Three-dimensional electron probe roughness analysis of InP sidewalls processed by reactive ion beam etching

著者

和文:	松谷晃宏, 小山二三夫, 伊賀健一.
英文:	Akihiro Matsutani, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Physics Letters

巻, 号, ページ

Vol. 66 No. 1 pp. 64-66

出版年月

1995年1月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI