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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Plasma Characterization in Chlorine-Based Reactive Ion Beam Etching and Chemically Assisted Ion Beam Etching 
著者
和文: 松谷晃宏, 小山二三夫, 伊賀健一.  
英文: Akihiro Matsutani, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 37    No. 5A    pp. 2747-2751
出版年月 1998年5月 
出版者
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1143/JJAP.37.2747

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