Emission Spectrochemical Analysis in Dry Etching Process of InP by Cl2 Inductively Coupled Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Emission Spectrochemical Analysis in Dry Etching Process of InP by Cl2 Inductively Coupled Plasma

著者

和文:	松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫, 伊賀健一.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 39 No. 10 pp. 6109-6110

出版年月

2000年10月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI