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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Effect of Postdeposition, Annealing Temperatures on Electrical Characteristics of Molecular-Beam-Deposited HfO2 on n-InAs/InGaAs Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors 
著者
和文: H.D. Trinh, Yueh-Chin Lin, H.C. Wang, C.H. Chang, 角嶋邦之, 岩井洋, 川那子高暢, Y.G. Lin, C.M. Chen, Y.Y.Wong, G.N. Huang, M. Hudait, E.Y. Chang.  
英文: H.D. Trinh, Yueh-Chin Lin, H.C. Wang, C.H. Chang, Kuniyuki KAKUSHIMA, HIROSHI IWAI, Takamasa Kawanago, Y.G. Lin, C.M. Chen, Y.Y.Wong, G.N. Huang, M. Hudait, E.Y. Chang.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Applied Physics Express 
巻, 号, ページ Vol. 5    No. 2    pp. .021104-1-3
出版年月 2012年2月 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 

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