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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Quantitative Study on Removal of SU-8 Photoresist Patterns by Supercritical CO2 Emulsion 
著者
和文: TSO-FU MARK CHANG, 石山 千恵美, 里 達雄, 曽根 正人.  
英文: Tso-Fu Mark Chang, Chiemi Ishiyama, Tatsuo Sato, Masato Sone.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Microelectronic Engineering 
巻, 号, ページ Vol. 110C        pp. 204-206
出版年月 2013年6月23日 
出版者
和文: 
英文:Elsevier 
会議名称
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英文: 
開催地
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英文: 

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