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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Impact of Deformation Potential Increase at Si/SiO2 Interfaces on Stress-Induced Electron Mobility Enhancement in MOSFET 
著者
和文: 大橋 輝之, 小田 俊理, 内田 建.  
英文: Teruyuki Ohashi, Shunri Oda, Ken Uchida.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         P-15
出版年月 2013年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:IEEE EDS WIMNACT-37 
開催地
和文: 
英文:Tokyo 

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