Fabrication and characterization of Si/SiGe quantum dots with capping gate

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication and characterization of Si/SiGe quantum dots with capping gate

著者

和文:	小寺哲夫, 福岡佑二, 小田俊理, K. Takeda, T. Obata, K. Yoshida, K. Sawano.
英文:	T. Kodera, Y. Fukuoka, SHUNRI ODA, K. Takeda, T. Obata, K. Yoshida, K. Sawano.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2012年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop

開催地

和文:
英文:	Honolulu