対向ターゲット式スパッタ法を用いたフルホイスラー合金Co2FeSi薄膜の作製と評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	対向ターゲット式スパッタ法を用いたフルホイスラー合金Co2FeSi薄膜の作製と評価
英文:	Characterization of full-Heusler Co2FeSi alloy thin films formed by facing target sputtering method

著者

和文:	高村陽太, 鈴木隆寛, 藤野頼信, 中川茂樹.
英文:	Yota takamura, Takahiro Suzuki, Yorinobu Fujino, Shigeki Nakagawa.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第37回日本磁気学会学術講演概要集2013
英文:	DIGETS ON THE 37TH ANNUAL CONFERRENCE ON MAGNETICS IN JAPAN 2013

巻, 号, ページ

3pC-11 p. 56

出版年月

2013年9月3日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第37回日本磁気学会学術講演会
英文:	The 37th Annual Conference on MAGNETICS in Japan

開催地

和文:	北海道札幌市
英文:	Sapporo, Hokkaido