Lateral dot fabrication by using a MOS electric gate on SiGe hetero structure

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Lateral dot fabrication by using a MOS electric gate on SiGe hetero structure

著者

和文:	小幡利顕, 申潤錫, ロランドブルナ, 武田健太, 福岡佑二, 大塚朋廣, 小寺哲夫, 吉田勝治, 澤野憲太郎, 小田俊理, 白木靖寛, 樽茶清悟.
英文:	Toshiaki Obata, 申潤錫, ロランドブルナ, Kenta Takeda, Yuji Fukuoka, 大塚朋廣, Tetsuo Kodera, 吉田勝治, 澤野憲太郎, SHUNRI ODA, 白木靖寛, Seigo Tarucha.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2010年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本物理学会秋季大会
英文:

開催地

和文:
英文: