Fabrication of InP vertical facets by reactive ion etching and sidewall roughness evaluation for semiconductor microvcavities

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of InP vertical facets by reactive ion etching and sidewall roughness evaluation for semiconductor microvcavities

著者

和文:	S. Mitsugi, 小山二三夫, 松谷晃宏, 伊賀健一.
英文:	S. Mitsugi, F. Koyama, A. Matsutani, K. Iga.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	CLEO Pacific Rim'99

巻, 号, ページ

WR6

出版年月

1999年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The Pacific Rim Conf. on Lasers and Electro-Optics 1999 (CLEO/PR’99)

開催地

和文:
英文:	Seoul