ICB法によるCaF<sub>2</sub>膜の低温エピタキシャル成長

論文・著書情報

タイトル

和文:	ICB法によるCaF₂膜の低温エピタキシャル成長
英文:	Low Temperature Epitaxial Growth of CaF₂ Films by ICB Technique.

著者

和文:	渡辺正裕, 六車仁志, 浅田雅洋, 荒井滋久.
英文:	M. Watanabe, H. Muguruma, M. Asada, S. Arai.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

28a-H-5 2 472

出版年月

1989年9月28日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第50回応用物理学会学術講演会
英文:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys

開催地

和文:	福岡県
英文:	fukuoka