CaF<sub>2</sub>/Si(111)上CoSi<sub>2</sub>薄膜の抵抗率測定

論文・著書情報

タイトル

和文:	CaF₂/Si(111)上CoSi₂薄膜の抵抗率測定
英文:	Resistivity measurement of CoSi₂ epitaxial thin films on CaF₂/Si(111)

著者

和文:	渡辺正裕, 村竹茂樹, 藤本寛正, 坂森重則, 浅田雅洋, 荒井滋久.
英文:	M. Watanabe, S. Muratake, H. Fujimoto, S. Sakamori, M. Asada, S. Arai.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

29p-ZF-3 1 244

出版年月

1991年3月29日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第38回応用物理学会関係連合講演会
英文:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys.

開催地

和文:	神奈川県
英文:	Kanagawa