Influence of Technological and Geometrical Parameters on Low-frequency Noise in SOI Omega-gate Nanowire MOSFETs

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Influence of Technological and Geometrical Parameters on Low-frequency Noise in SOI Omega-gate Nanowire MOSFETs

著者

和文:	小山将央, M. Casse, R. Coquand, S. Barraud, G. Ghibaudo, 岩井洋, G. Reimbold.
英文:	小山将央, M. Casse, R. Coquand, S. Barraud, G. Ghibaudo, HIROSHI IWAI, G. Reimbold.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2014年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2014 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications(2014 VLSI-TSA)

開催地

和文:
英文:	Hsinchu