Low-temperature epitaxial growth of high quality Si1-xGex (x ≥ 0.99) films on Si(001) wafer by reactive thermal chemical vapor deposition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low-temperature epitaxial growth of high quality Si1-xGex (x ≥ 0.99) films on Si(001) wafer by reactive thermal chemical vapor deposition

著者

和文:	陶科, 黒澤慶能, 半那純一.
英文:	Ke Tao, Yoshinori Kurosawa, Jun-ichi Hanna.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Appl. Phys. Lett.

巻, 号, ページ

Vol. 102 No. 18 pp. 182109 - 182109-5

出版年月

2013年5月13日

出版者

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会議名称

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開催地

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