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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Epitaxial growth of germanium-rich silicon-germanium films on Si(0 0 1) substrate by reactive thermal chemical vapor deposition 
著者
和文: 陶 科, 半那純一.  
英文: Ke Tao, Jun-ichi Hanna.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Appl. Surf. Sci. 
巻, 号, ページ Vol. 282        pp. 472-477
出版年月 2013年6月13日 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2013.05.156

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