In-Situ Monitoring of Silicon Nanocrystal Deposition with Pulsed SiH4 Supply by Optical Emission Spectroscopy of Ar Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	In-Situ Monitoring of Silicon Nanocrystal Deposition with Pulsed SiH4 Supply by Optical Emission Spectroscopy of Ar Plasma

著者

和文:	池本和史, 中峯嘉文, 河野行雄, 小田俊理.
英文:	Kazufumi Ikemoto, Yoshifumi Nakamine, Yukio Kawano, Shunri Oda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 53 No. 11 pp. 116102 (4 pages)

出版年月

2014年10月23日

出版者

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会議名称

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開催地

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