Angled Etching of (001) Rutile Nb-TiO2 Substrate by SF6 Based Capacitive Coupled Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Angled Etching of (001) Rutile Nb-TiO2 Substrate by SF6 Based Capacitive Coupled Plasma

著者

和文:	松谷晃宏, K. Nishioka, M. Sato, 庄司大, 小林大斗, 磯部敏宏, 中島章, T. Tatsuma, 松下祥子.
英文:	A. Matsutani, K. Nishioka, M. Sato, D. Shoji, D. Kobayashi, T. Isobe, A. Nakajima, T. Tatsuma, S. Matsushita.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

Vol. 53 pp. 06JF02

出版年月

2014年

出版者

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会議名称

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開催地

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