EDX analysis of Si sidewall surface etched by deep-RIE process

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	EDX analysis of Si sidewall surface etched by deep-RIE process

著者

和文:	松谷晃宏, 佐藤美那, 西岡國生, 庄司大.
英文:	Akihiro Matsutani, Mina Sato, Kunio Nishioka, Dai Shoji.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

12P-7-42

出版年月

2015年11月10日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2015)

開催地

和文:
英文:	Toyama