Surface passivation of germanium nanowires using Al2O3 and HfO2 deposited via atomic layer deposition (ALD) technique

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Surface passivation of germanium nanowires using Al2O3 and HfO2 deposited via atomic layer deposition (ALD) technique

著者

和文:	SIMANULLANG MAROLOP, 宇佐美浩一, 野口智弘, Surawijaya Akhmadi, 小寺哲夫, 河野行雄, 小田俊理.
英文:	Marolop Simanullang, Kouichi Usami, Tomohiro Noguchi, Akhmadi Surawijaya, Tetsuo Kodera, Yukio Kawano, Shunri Oda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2013年11月8日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference

開催地

和文:
英文:	Royton Sapporo