Substrate Noise Isolation Improvement by Helium-3 Ion Irradiation Technique in a Triple-well CMOS Process

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Substrate Noise Isolation Improvement by Helium-3 Ion Irradiation Technique in a Triple-well CMOS Process

著者

和文:	李寧, 井上剛, 平野拓一, Jian Pang, Rui Wu, 岡田健一, 坂根仁, 松澤昭.
英文:	ning li, 井上剛, Takuichi Hirano, Pang Jian, Rui Wu, Kenichi Okada, 坂根仁, Akira Matsuzawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

Vol. ICD2015-84 pp. 75-80

出版年月

2015年12月18日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	電子情報通信学会集積回路研究会
英文:

開催地

和文:	京都
英文: